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挺进次世代:ASML吐露更多EUV光刻机研发新停留

宣布时间:2011年03月05日 08:03    宣布者:1770309616
要害词: ASML , EUV光刻机 , 次世代
在比来举行的SPIE高等光刻手艺聚会聚会会议上,虽然EUV光刻工具的生长现状仍显得不够成熟,但现在独逐一家推出商用EUV光刻装备的厂商ASML照样给我们 带来了一些下一代EUV光刻机的新信息,而我们也趁此时机给年夜家总结一下ASML曾经上市和正在研发阶段的EUV光刻机的部门性能参数。

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IMEC使命职员正在装配NXE:3100



如我们之前简介的那样,ASML现在上市的试产型EUV光刻机型号为NXE:3100,这款机型号称最高成像才干为18nm,虽然这款机型在暴光功率和产出量方面还存在一些效果,但ASML体现他们会进一步优化下一代机型的性能,他们预定于2012年推出3100的后续机型。

我们先来看看他们刚刚推出的试产型NXE:3100机型的情形,之以是称为“试产型”,主若是由于这款机型在产出量方面还不克不及到达芯片制造厂探讨产芯片时的产出量请求。

NXE:3100机型的主要客户和光源系统/产出量目的:


现在曾经有两台NXE:3100在客户处装配完成,其中首家装配的客户是三星公司,第二家则是比利时的IMEC研究机构。须要诠释的是,现在ASML公司有两家EUV光源供应商,其一是Cymer公司,他们临盆的EUV光源系统接纳的是LPP激光等离子体光源,这类光源应用高功率激光来加热负载发生等离子体,据ASML走漏,现在Cymer供应的光源系统其一连暴光功率为11W;另外一种则是Ushio临盆的基于DPP放电等离子体手艺的光源系统,这类光源应用放电来加热负载(极眇小的锡滴)发生等离子体,据ASML称Ushio正在开发历程当中的一套DPP光源系统的暴光功率可达12W。而三星公司装配的那台NXE3100配用的是Cymer的光源系统,IMEC的那台则接纳Ushio的光源系统。

另外尚有一家临盆EUV光源系统的主要厂商Gigaphoton,据ASML公司走漏,这家公司制造的EUV LPP光源系统据称暴光功率可达20W左右。

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接触孔(contact hole)的形状



听说三星推销这台EUV光刻机的目的是准备将其用于内存芯片的临盆制造,启事是假定应用193nm液浸光刻+两重成像手艺来制造更高密度的内存芯片中的接触孔结构,其制形资源会很高,是以三星正在寻觅其它的制造妄图。

产出量方面,NXE3100机型到今年岁尾可完成60片晶圆/小时的产出量,如现在则每小时只能加工出5片晶圆。凭证ASML公司高等产物司理Christian Wagner的说法,只需将光源的一连暴光功率提升到100W品级,才有望完成60片/小时的产出量目的。而按KLA-Tencor公司高管的说法,EUV光刻机的每小时产出量必须能保持在80片晶圆,光刻机厂商才有能够从中取得稳固的支出。

NXE3100其它主要手艺参数:


其它参数方面,凭证ASML公司高等产物司理Christian Wagner的说法,NXE:3100分辨率可达27nm级别,可以成像的最小线宽尺寸和最小线间距尺寸则到达27/24nm,最小接触孔(contact hole)的孔径尺寸则为30nm;数值孔径则为0.25,暴光视场尺寸则为26mmx33mm(原文为26nm,似乎有误),套刻误差为4nm,杂散光斑比例(Flare)为5%。

Wagner还体现,NXE:3100光刻机现在曾经可以刻制出32/40nm直径尺寸的接触孔。而假定应用偶极离轴照明式分辨率增强手艺(dipole resolution technique),系统的分辨率还可以进一步前进到可刻制直径在20nm以下的接触孔结构。至于在逻辑器件中的应用,这款机械则据称可用于制造18nm制程的SRAM芯片。

NXE3100售价及主要客户:


价钱方面,NXE:3100机型的售价据称约在1亿美元左右。光是EUV光刻工具一项营业,ASML公司现在为止从中赚钱的数额便曾经到达了10亿美元之巨。

除三星和IMEC两家客户以外,尚有另外四家公司也曾经向ASML公司订购了NXE:3100机型,这四家公司划分是Intel,台积电,韩国Hynix和日本东芝公司。而Globalfoundries公司则跳过了NXE:3100,曾经延迟订购了ASML还没有开发完成的量产型NXE:3300机型。

下一代机型NXE3300B的主要手艺目的及订货状态:


据ASML体现,NXE:3100以后,他们还在开发其下一代可供量产的机型NXE:3300.该机型的初始型号将命名为NXE:3300B,这款机型数值孔径NA为0.33(原来妄图的NA值为0.32,不外ASML公司厥后提升了这项规格),图象剖析度可达22nm(原文为0.22nm,似乎有误)。该机型的产出量目的是每小时加工125片晶圆,这意味着其所配套的光源的一连功率必须到达250W。现在ASML公司曾经收到了10份这款机型的订单。

附:ASML开发的各型EUV光刻机参数汇总较量:

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诠释:
1-ADT指Alpha demo tool,是ASML出品的第一代EUV光刻实验机型;
2-所谓老例照明形式,即指没有应用离轴光照手艺的情形;
2-所有三台机型均接纳双使命台设计.
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