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安森美半导体前进高分辨率工业应用的成像性能 [复制链接]

ningxueqin (离线)
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揭晓于 2019-4-29 17:47:59 |只看该作者 |倒序浏览
  推动高能效创新的安森美半导体(ON Semiconductor),前进请求高分辨率图象捕捉和最年夜图象匀称度的工业应用的成像性能。

  新的2900万像素KAI-29052图象传感器在500纳米(nm)到1050 nm的波长规模内供应比现有的KAI-29050高达两倍的成像迅速度。这刷新的性能尤有益于在近红外(NIR)波长如850 nm使命的应用。

  这增强的像素设计生涯光电二极管之间的电荷隔离,完成迅速度的增添,而不降低图象清晰度(调制转达函数或MTF)。此外,刷新的镌汰年夜器设计降低了15%的读出噪声,增添器件可供应的线性静态规模至66分贝(dB)。这些刷新使KAI-29052成为高分辨率图象捕捉的一个新的性能基准。

  安森美半导体图象传感器部工业妄图分部副总裁兼总司理Herb Erhardt说:“工业成像应用如高端安防、机械视觉和空中侦查和制图赓续前进的需求请求用于该市场的图象传感器系列赓续刷新。KAI-29052增强的性能进一步证实安森美半导体一连起劲于为这些高请求的市场供应最早辈的CCD和CMOS图象传感器。”

  安森美半导体的KAI-29052接纳切合限制应用有害物质指令(RoHS)的CPGA-72封装,具有诟谇、拜耳色和Sparse Color装备,并与现有的KAI-29050图象传感器和全系列的5.5微米和7.4微米CCD图象传感器完全引脚兼容,使摄像机制造商能迅速接纳新器件。

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