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国产22纳米光刻机治不了我们的“芯”病!

宣布时间:2018年12月03日 09:12    宣布者:eechina
要害词: 光刻 , 国产芯片
泉源:科技日报

  11月29日,中科院研制的“超分辨光刻装备”经由历程验收。新闻传着传着,就成了蜚语——《国产光刻机巨年夜突破,国产芯片白菜化在即》《突破荷兰手艺关闭,弯道超车》《凶悍了我的国,新式光刻机将打破“芯片荒”》……

  笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会,写了报导,还算熟悉,没法苟统一些漫无边缘的瞎扯。

  中科院研制的这类光刻机不克不及(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意义是用克己光源完成较高的分辨率,用于一些特殊制造场景,很经济。

  先诠释下:光刻机否则则制造芯片用。一张平面(岂论硅片照样甚么质料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻——就像照相,图象投在感光底片上,蚀掉落落一部门。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了年夜规模集成电路——芯片。

  为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极端。线条细到一定水平,投影就模糊了。要清晰投影,线条粗细不克不及低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。

  但稳固的、年夜功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人夷易近币。请求使命情形严苛,合营的光学和机械部件又极端周详,以是荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创作缔造了“一台卖一亿美金”的神话。

  十几年前,国际下去源对外面等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年泉源研究,是较早出效果的一个团队。所谓SP,光电所的迷信家杨勇向笔者诠释:拿一块金属片和非金属片亲近接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震乱,发生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。

  但这类电磁波很弱,以是光刻胶得靠近了,才干刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少以现在的手艺不克不及。

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项目副总设计师胡松研究员简介超分辨光刻装备研制项目攻关情形(供图:中科院科技摄影同盟)

  验收会上也有记者问:该光刻装备能不克不及刻芯片,打破海内垄断?光电所专家回复说,用于芯片须要攻克一系列手艺难题,距离还很悠远。

  总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就似乎说中国出了个赛跑名将要超出博尔特。

  各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩。但厥后网媒添枝加叶,弄到离谱。有些撒播者为吸引眼球、赚钱,最爱制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成就先往年夜里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。

  这类“科技报导”是知足虚荣心的伪新闻。内行听了眉头一紧,避之年夜吉。也难怪许多迷信家怕上新闻。
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