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中科院自主研制新型光刻机

宣布时间:2016年03月25日 10:03    宣布者:eechina
要害词: 光刻
泉源:新华社

克期,记者从中科院光电手艺研究所得知,该所微电子公用装备研发团队自主研制告成紫外纳米压印光刻机。

据中科院光电所微电子装备全体研究室主任胡松简介,该所自主研发的新型光刻机,将纳米压印这一新型高分辨力光刻手艺,与具有低资源、高效力特点的紫外光刻手艺无机联络。

记者明确到,这套装备接纳新型纳米瞄准手艺,将原光刻装备的瞄准精度由亚微米量级提升至纳米量级。瞄准是光刻装备三年夜焦点目的之一,是完告成能化器件加工的要害。该所在国家自然基金的一连赞助下,完成基于莫尔条纹的高精度瞄准手艺自主研发,取得专利20余项。

“该手艺在光刻机中的告成应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈效果,为高精度纳米器件的加工供应了手艺保证。”胡松说。

据悉,该装备可普遍应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备,具有辽阔的应用远景,现在已完成初试和小批临盆,并已在高校与企业用户中推行。

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